原始題名：國父紀念館第二期工程

建築師：王大閎Wang,Da Hong

繪圖者：黃

案名：國父紀念館

建築師事務所：王大閎事務所

原件類型：描圖紙

圖說內容屬性：建築圖

類別：建築圖

年代：繪製日期： 60 年 10 月20 日

尺寸描述：845x560

取得方式：價購

原收藏者：王大閎

登錄號：CWDH10123019

內部編號：PC-100

藏品描述：左邊部分: 1. 大會堂兩側投光室平面 (位於三樓) 1/30, 2. A-A剖面1/30, 3. 正立面1/30, 4. 側立面1/30, 5. B-B剖面1/30, 右邊部分: 1. 東側音?控制室平面 (西側同) 1/60, 2. 燈光控制室窗立面 (大會堂向) 1/60, 3. 燈光控制室觀察窗詳圖 (含a, b, c三張, 比例皆為1/3)

藏品描述-授權標示：